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半导体真空气相沉积磁控薄膜沉积真空镀膜溅射仪

来源:郑州科探仪器设备有限公司 发布时间:2023-06-14
郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积镀膜技术经验。气相沉积溅射其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高度积极地开发新设计以满足客户的特殊要求。

郑科探的工程团队设计和制造的组件符合标准。KT-Z1650PVD真空镀膜机已通过分销商销往许多大学和研究中心,并得到了很好的参考和反馈。

仪器描述:

半导体真空磁控溅射仪器,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
标签:气相沉积,薄膜沉积,真空镀膜 责任编辑:邱迎迎

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