半导体真空气相沉积磁控薄膜沉积真空镀膜溅射仪

来源：郑州科探仪器设备有限公司时间：2023-06-14 [举报]

郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积（PVD）系统的设计者和制造商，客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积镀膜技术经验。气相沉积溅射其研发团队在学界科学家和工程师的支持下，高度积极地开发新设计以满足客户的特殊要求。

郑科探的工程团队设计和制造的组件符合标准。KT-Z1650PVD真空镀膜机已通过分销商销往许多大学和研究中心，并得到了很好的参考和反馈。

仪器描述：

半导体真空磁控溅射仪器，能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，使样品适用于扫描电子显微镜（SEM）分析。仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高。

标签：气相沉积,薄膜沉积,真空镀膜责任编辑：邱迎迎